報(bào)道稱，斷虹在今年5月為期四天的印巴沖突中，印方獲得一枚巴基斯坦空軍發(fā)射但未起爆的霹靂-15E。

光刻膠如同刻畫電路的顏料，霽雨它在顯影液中的運(yùn)動，直接決定電路畫得準(zhǔn)不準(zhǔn)、好不好，進(jìn)而影響芯片良率。秋空光刻技術(shù)是推動集成電路芯片制程工藝持續(xù)微縮的核心驅(qū)動力之一。

彭海琳表示，染修冷凍電子斷層掃描技術(shù)為在原子/分子尺度上解析各類液相界面反應(yīng)提供了強(qiáng)大工具。深入掌握液體中聚合物的結(jié)構(gòu)與微觀行為，眉新可推動先進(jìn)制程中光刻、蝕刻和濕法清洗等關(guān)鍵工藝的缺陷控制與良率提升。研究人員最終合成出一張分辨率優(yōu)于5納米的微觀三維全景照片，斷虹一舉克服了傳統(tǒng)技術(shù)無法原位、三維、高分辨率觀測的三大痛點(diǎn)。

顯影是光刻的核心步驟之一，霽雨通過顯影液溶解光刻膠的曝光區(qū)域，將電路圖案精確轉(zhuǎn)移到硅片上。近日，秋空北京大學(xué)化學(xué)與分子工程學(xué)院彭海琳教授團(tuán)隊(duì)及合作者通過冷凍電子斷層掃描技術(shù)，秋空首次在原位狀態(tài)下解析了光刻膠分子在液相環(huán)境中的微觀三維結(jié)構(gòu)、界面分布與纏結(jié)行為，指導(dǎo)開發(fā)出可顯著減少光刻缺陷的產(chǎn)業(yè)化方案。

為破解難題，染修研究團(tuán)隊(duì)首次將冷凍電子斷層掃描技術(shù)引入半導(dǎo)體領(lǐng)域。長期以來，眉新光刻膠在顯影液中的微觀行為是黑匣子，工業(yè)界的工藝優(yōu)化只能靠反復(fù)試錯(cuò)，這成為制約7納米及以下先進(jìn)制程良率提升的關(guān)鍵瓶頸之一前三季度，斷虹佛山、福州、泉州外貿(mào)進(jìn)出口總額分別為3543.55億元、2037.81億元、1841.80億元，增速分別為-6.7%、-24.8%、-9.2%，外貿(mào)穩(wěn)增長仍然壓力重重。其中，霽雨出口6993億元，同比增長21.1%，對浙江全省出口增長貢獻(xiàn)率達(dá)50.5%，居全省首位。除電腦及其零部件、秋空音視頻設(shè)備及其零件、秋空集成電路等產(chǎn)品進(jìn)出口表現(xiàn)亮眼外，新興產(chǎn)業(yè)中，鋰電池、3D打印機(jī)出口分別增長36.6%、14%，增勢較好，成為深圳外貿(mào)增長的強(qiáng)勁支撐。實(shí)際上，染修從鄭州、染修西安到合肥、常州、蕪湖，很多外貿(mào)增長亮眼的城市背后，都有著新能源汽車、太陽能電池等新興產(chǎn)業(yè)集群的支撐，這也已經(jīng)成為影響城市外貿(mào)競爭格局的重要因素。而福州、眉新泉州所在的福建，其外貿(mào)結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)型壓力已經(jīng)顯露無疑。